Մեծածախ TiAlSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Պատվերով Պատրաստված Արտադրող և Մատակարար |Հարուստ

Տիտանի ալյումինե սիլիկոն

TiAlSi Sputtering Target Բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն:

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	TiAlSi
Կազմը	Տիտանի ալյումինե սիլիկոն
Մաքրություն	99,5%, 99,9%, 99,95%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	PM
Հասանելի չափ	L≤2000 մմ, W≤200 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Titanium Aluminium Silicon Sputtering Target Description

Տիտանի ալյումինե սիլիցիումի ցողման թիրախը արտադրվում է ուժային մետալուրգիայի միջոցով:
Տիտանի ալյումինե սիլիցիումի համաձուլվածք, որը պայմանականորեն օգտագործվում է ավտոմոբիլային շարժիչների արտադրության մեջ:Այն ունի գերազանց բարձր ջերմաստիճանի համապատասխանություն և մաշվածության դիմադրություն:Ti-Al-Si խառնուրդի կիրառումը կարող է զգալիորեն երկարացնել շարժիչի բաղադրիչների կյանքը մոտ 35%-ով:Ինչ վերաբերում է դրա կիրառմանը մոտոցիկլետի և ավտոմոբիլային անիվների մեջ, այն ավելի լավ ձուլման, մշակման, հոգնածության դիմադրություն և հարվածի դիմացկունություն է ցուցաբերում, քան A356 ալյումինը:

Արագ կարծրացվող ալյումինե համաձուլվածքը կարելի է ձեռք բերել արագ ամրացման գործընթացով, որը կոչվում է «հալված պտտում», որն առաջացնում է գերազանց հատկություններ՝ համեմատած սովորական ալյումինի համաձուլվածքի հետ, մանրահատիկ միկրոկառուցվածքի և համաձուլման ավելի ճկունության հետ մեկտեղ:Դա օդանավերի արդյունաբերության մեջ պոտենցիալ նյութ է, որը փոխարինում է 150-300℃ ջերմաստիճանում օգտագործվող տիտանի բազային խառնուրդին:

TiAlSi թիրախների նստեցման գործընթացում TiAlSi/TiAlSiN-ը կարող է ձևավորվել առանձին՝ որպես բարձրորակ բյուրեղային շերտերի բազմաշերտ՝ հիմնականում խորանարդ կառուցվածքներով:Այս բազմաշերտ ծածկույթները այս նյութերը պատրաստել են կոշտ ծածկույթների համար՝ մեծացնելով կոշտ միջավայրում օգտագործվող գործիքների կյանքը:

Titanium Aluminium Silicon Sputtering Target Packaging

Մեր Titanium Aluminium Silicon sputter թիրախը հստակ պիտակավորված է և դրսից պիտակավորված՝ արդյունավետ նույնականացում և որակի վերահսկում ապահովելու համար:Մեծ ուշադրություն է դարձվում՝ խուսափելու ցանկացած վնասից, որը կարող է առաջանալ պահեստավորման կամ տեղափոխման ընթացքում:

Ստացեք կապ

RSM-ի Titanium Aluminium Silicon sputtering թիրախները չափազանց բարձր մաքրության և միատեսակ են:Դրանք հասանելի են տարբեր ձևերով, մաքրությամբ, չափերով և գներով:Մենք մասնագիտացած ենք բարձր մաքրության բարակ թաղանթապատման նյութերի արտադրության մեջ՝ գերազանց կատարողականությամբ, ինչպես նաև հնարավոր ամենաբարձր խտությամբ և հնարավոր ամենափոքր միջին չափսերով՝ կաղապարի ծածկույթում օգտագործելու համար, դեկորացիա, ավտոմեքենայի մասեր, ցածր E ապակի, կիսահաղորդչային ինտեգրալ միացում, բարակ թաղանթ: դիմադրություն, գրաֆիկական էկրան, օդատիեզերք, մագնիսական ձայնագրում, սենսորային էկրան, բարակ թաղանթով արևային մարտկոց և այլ ֆիզիկական գոլորշիների նստեցման (PVD) հավելվածներ:Խնդրում ենք մեզ հարցում ուղարկել ցայտող թիրախների և այլ նստվածքային նյութերի ընթացիկ գների վերաբերյալ, որոնք նշված չեն:

Նախորդը: TiAlV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Հաջորդը: TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made