Մեծածախ NiCrCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Պատվերով Պատրաստված Արտադրող և Մատակարար |Հարուստ

Նիկել քրոմ պղինձ

NiCrCu Sputtering Target Բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն:

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	NiCrCu
Կազմը	Նիկել քրոմ պղինձ
Մաքրություն	99,5%, 99,7%, 99,9%, 99,99%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	Վակուումային հալեցում
Հասանելի չափ	L≤2000 մմ, W≤350 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

NiCrCu Sputtering թիրախը արտադրվում է նիկել-քրոմ պղնձի հումքի հալման և ձուլման միջոցով:Այն ունի բարձր դիմադրողականություն, ցածր ջերմաստիճանի գործակից և բարձր զգայունություն:Նիկելը և քրոմը ունեն մակերևույթի միանման էներգիա, և NiCrCu-ի բարակ թաղանթի բաղադրությունը նման է ցողման թիրախին, ուստի հեշտ է վերահսկել նստվածքի արդյունքը:

Rich Special Materials-ը մասնագիտացած է ցայտող թիրախի արտադրության մեջ և կարող է արտադրել նիկել քրոմ պղնձի ցողման նյութեր՝ ըստ հաճախորդների բնութագրերի:Լրացուցիչ տեղեկությունների համար խնդրում ենք կապվել մեզ հետ:

Նախորդը: NiCrAlY Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված

Հաջորդը: NiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made