Բարի գալուստ մեր կայքեր:

Մագնետրոնային ցրման սկզբունքները ցցելու թիրախների համար

Շատ օգտատերեր պետք է լսած լինեին ցատկելու թիրախի արտադրանքի մասին, սակայն ցայտող թիրախի սկզբունքը պետք է համեմատաբար անծանոթ լինի:Այժմ, խմբագիրՀարուստ հատուկ նյութ (RSM) կիսում է մագնետրոնային թրթռման սկզբունքները ցրող թիրախի համար.

 https://www.rsmtarget.com/

Ուղղանկյուն մագնիսական դաշտը և էլեկտրական դաշտը ավելացվում են ցրված թիրախային էլեկտրոդի (կաթոդի) և անոդի միջև, անհրաժեշտ իներտ գազը (ընդհանուր առմամբ Ar գազ) լցվում է բարձր վակուումային պալատի մեջ, մշտական ​​մագնիսը ձևավորում է 250 ~ 350 Գաուսի մագնիսական դաշտ: թիրախային տվյալների մակերեսը, իսկ ուղղանկյուն էլեկտրամագնիսական դաշտը ձևավորվում է բարձր լարման էլեկտրական դաշտով։

Էլեկտրական դաշտի ազդեցության տակ Ar գազը իոնացվում է դրական իոնների և էլեկտրոնների։Թիրախին ավելացվում է որոշակի բացասական բարձր լարում։Մագնիսական դաշտի ազդեցությունը թիրախ բևեռից արտանետվող էլեկտրոնների վրա և աշխատող գազի իոնացման հավանականությունը մեծանում է՝ կաթոդի մոտ ձևավորելով բարձր խտության պլազմա։Լորենցի ուժի ազդեցության տակ Ar իոնները արագանում են դեպի թիրախային մակերես և շատ մեծ արագությամբ ռմբակոծում թիրախային մակերեսը: Թիրախի վրա ցրված ատոմները հետևում են իմպուլսի փոխակերպման սկզբունքին և բարձր կինետիկ էներգիայով թռչում են թիրախի մակերեսից դեպի ենթաշերտը: ֆիլմեր պահելու համար։

Մագնետրոնային թրթռումը սովորաբար բաժանվում է երկու տեսակի՝ վտակային ցցում և RF թրթռում:Վտակային ցողման սարքավորումների սկզբունքը պարզ է, և դրա արագությունը նույնպես արագ է մետաղը ցողելիս:Լայնորեն կիրառվում է RF sputtering.Բացի հաղորդիչ նյութերի ցրումից, այն կարող է նաև ցողել ոչ հաղորդիչ նյութեր:Միևնույն ժամանակ, այն նաև իրականացնում է ռեակտիվ ցողում օքսիդներից, նիտրիդներից, կարբիդներից և այլ միացություններից նյութեր պատրաստելու համար։Եթե ​​ՌԴ հաճախականությունը մեծանա, այն կդառնա միկրոալիքային պլազմային ցողում:Այժմ սովորաբար օգտագործվում է էլեկտրոնային ցիկլոտրոնային ռեզոնանսային (ECR) միկրոալիքային պլազմայի ցրումը:


Հրապարակման ժամանակը` մայիս-31-2022