NbTi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Նիոբիումի տիտան
Niobium Titanium sputtering թիրախը արտադրվում է վակուումային հալման միջոցով:Տիտանի բնորոշ պարունակությունը կազմում է 66% (մոտ 50% քաշ):Այն արտասովոր գերհաղորդական նյութ է և կարող է վերածվել մի շարք բարդ գործնական նյութերի սովորական դեֆորմացիայի և ջերմային մշակման գործընթացի միջոցով:
Rich Special Materials-ը Sputtering Target-ի արտադրող է և կարող է արտադրել Niobium Titanium Sputtering Materials՝ ըստ հաճախորդների բնութագրերի:Լրացուցիչ տեղեկությունների համար խնդրում ենք կապվել մեզ հետ: