Մեծածախ FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Պատվերով Պատրաստված Արտադրող և Մատակարար |Հարուստ

Երկաթե կոբալտ տանտալ

FeCoTa Sputtering Target Բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն:

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	FeCoTa
Կազմը	Երկաթե կոբալտ տանտալ
Մաքրություն	99,9%, 99,95%, 99,99%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	Վակուումային հալեցում, PM
Հասանելի չափ	L≤200 մմ, W≤200 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Երկաթե կոբալտ տանտալի թիրախները սովորաբար հասանելի են շրջանաձև ձևով և ուղղահայաց մագնիսական ձայնագրման կրիտիկական բարակ թաղանթով:Խառնուրդում առկա տանտալի զգալի քանակությունը կհանգեցնի տարանջատման և չլուծված մասնիկների առաջացմանը:Մենք օգտագործում ենք արտադրության յուրահատուկ մեթոդ, որը կարող է ապահովել միկրոկառուցվածքի միատարրությունը և բարելավել նյութերի մեխանիկական հատկությունները:

Ապրանքային անուն		FeCoTa
Fe/wt%		Հաշվեկշիռ	Հաշվեկշիռ	Հաշվեկշիռ
Co/wt%		21,6±0,5	21,9±0,5	20,2±0,5
Ta/wt%		41,1±0,8	39,4±0,8	44,3±0,8
Մետաղական խառնուրդի պարունակությունը(ppm)	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
Գազի խառնուրդի պարունակությունը(ppm)	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Rich Special Materials-ը մասնագիտացած է ցայտող թիրախի արտադրության մեջ և կարող է արտադրել երկաթե կոբալտ տանտալ ցայտող նյութեր՝ ըստ հաճախորդների բնութագրերի:Լրացուցիչ տեղեկությունների համար խնդրում ենք կապվել մեզ հետ:

Նախորդը: FeCo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Հաջորդը: FeSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made