Մեծածախ CrAlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Պատվերով Պատրաստված Արտադրող և Մատակարար |Հարուստ

Քրոմ ալյումինե սիլիկոն

CrAlSi համաձուլվածքի ցրման թիրախ բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն:

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	CrAlSi
Կազմը	Քրոմ ալյումինե սիլիցիում
Մաքրություն	99,9%, 99,95%, 99,99%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	Վակուումային հալեցում, PM
Հասանելի չափ	L≤1000 մմ, W≤200 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Chronium Aluminium Silicon Sputtering Target Description

Chronium Aluminium Silicon Sputtering Targets-ի արտադրությունը ներառում է հետևյալ քայլերը.
1. Սիլիցիումի, ալյումինի և քրոնիումի վակուումային հալեցում` աստիճանային համաձուլվածքներ ստանալու համար:
2. Փոշու մանրացում և խառնում:
3. Hot isostatic սեղմելով բուժում ձեռք բերելու քրոմ ալյումինե սիլիցիումի խառնուրդ sputtering թիրախ.
Chronium Aluminium Silicon Sputtering Targets-ը լայնորեն օգտագործվում է կտրող գործիքների և կաղապարների մեջ՝ շնորհիվ իր մաշվածության դիմադրության և բարձր ջերմաստիճանի օքսիդացման դիմադրության՝ ֆիլմի աշխատանքը բարելավելու համար:
CrAlSi թիրախների PVD-ի գործընթացում կձևավորվի ամորֆ Si3N4 փուլ:Ամորֆ Si3N4 փուլի ընդգրկման շնորհիվ հացահատիկի չափի աճը կարող է զսպվել և բարելավել բարձր ջերմաստիճանի օքսիդացման դիմադրության հատկությունը:

Chronium Aluminium Silicon Sputtering Target Packaging

Մեր Chronium Aluminium Silicon sputter թիրախը հստակ պիտակավորված է և դրսից պիտակավորված՝ արդյունավետ նույնականացում և որակի վերահսկում ապահովելու համար:Մեծ ուշադրություն է դարձվում՝ խուսափելու ցանկացած վնասից, որը կարող է առաջանալ պահեստավորման կամ տեղափոխման ընթացքում

Ստացեք կապ

RSM-ի Chronium Aluminium Silicon sputtering թիրախները չափազանց բարձր մաքրության և միատեսակ են:Դրանք հասանելի են տարբեր ձևերով, մաքրությամբ, չափերով և գներով:Մենք մասնագիտացած ենք բարձր մաքրության բարակ թաղանթապատման նյութերի արտադրության մեջ՝ գերազանց կատարողականությամբ, ինչպես նաև հնարավոր ամենաբարձր խտությամբ և հնարավոր ամենափոքր միջին չափսերով՝ կաղապարի ծածկույթում օգտագործելու համար, դեկորացիա, ավտոմեքենայի մասեր, ցածր E ապակի, կիսահաղորդչային ինտեգրալ միացում, բարակ թաղանթ: դիմադրություն, գրաֆիկական էկրան, օդատիեզերք, մագնիսական ձայնագրում, սենսորային էկրան, բարակ թաղանթով արևային մարտկոց և այլ ֆիզիկական գոլորշիների նստեցման (PVD) հավելվածներ:Խնդրում ենք մեզ հարցում ուղարկել ցայտող թիրախների և այլ նստվածքային նյութերի ընթացիկ գների վերաբերյալ, որոնք նշված չեն:

Նախորդը: CrSi համաձուլվածքի ցրման թիրախ բարձր մաքրության բարակ թաղանթ Pvd ծածկույթ Պատվերով պատրաստված

Հաջորդը: AlCr Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made