Մեծածախ CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made Արտադրող և Մատակարար |Հարուստ

Քրոմի ալյումին

CrAl Alloy Sputtering Target High մաքրության բարակ թաղանթ PVD ծածկույթ Պատվերով պատրաստված ընտրված պատկեր

Կարճ նկարագրություն:

Կարգավիճակ	Ալյումինե ցողման թիրախ
Քիմիական բանաձև	CrAl
Կազմը	Քրոմի ալյումին
Մաքրություն	99,7%, 99,9%, 99,95%, 99,99%
Ձևավորում	Թիթեղներ, սյունակների թիրախներ, աղեղային կաթոդներ, պատվերով պատրաստված
Արտադրական գործընթաց	Վակուումային հալեցում, PM
Հասանելի չափ	L≤2000 մմ, W≤200 մմ

Նամակ ուղարկեք մեզ

Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Chromium Aluminium Sputtering Targets-ի արտադրությունը ներառում է հետևյալ քայլերը.

1. Փոշի մանրացնել և խառնել:

2. Տաք իզոստատիկ մամլման բուժում՝ կիսաֆաբրիկատներ ստանալու համար։

3. Քրոմի ալյումինի համաձուլվածքի կոպիտ ցողման թիրախային նյութի մշակում` քրոմ ալյումինի համաձուլվածքի ցողման թիրախային նյութը ստանալու համար:

CrAl ցողման թիրախների նստեցման գործընթացում առաջանում է կոշտ ալյումին-քրոմ-նիտրիդ (AlCrN) ծածկույթ:Այս ծածկույթը ցույց է տալիս բարձր կարծրություն և օքսիդացման դիմադրություն նույնիսկ բարձր ջերմաստիճանում:Կտրիչները կարող են աշխատել բարձր սնուցմամբ՝ արտադրողականությունը բարձրացնելու և որակը բարձրացնելու համար CNC մեքենաներ օգտագործելիս:

Մեր բնորոշ AlCr թիրախները և դրանց հատկությունները

	Cr-70Alժամը%	Cr-60Alժամը%	Cr-50Alժամը%
Մաքրություն (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
Խտություն(գ/սմ³）	3.7	4.35	4.55
Gանձրեւ Չափը(մկմ)	100/50	100/50	100/50
Գործընթացը	ՀԻՊ	ՀԻՊ	ՀԻՊ

Rich Special Materials-ը մասնագիտացած է ցայտող թիրախի արտադրության մեջ և կարող է արտադրել ալյումինե քրոմ ցայտող նյութեր՝ ըստ հաճախորդների բնութագրերի:Մեր արտադրանքն առանձնանում է գերազանց մեխանիկական հատկություններով, միատարր կառուցվածքով, փայլեցված մակերեսով, առանց տարանջատման, ծակոտիների կամ ճաքերի:Լրացուցիչ տեղեկությունների համար խնդրում ենք կապվել մեզ հետ:

Նախորդը: CoFe Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Հաջորդը: AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made